Картка документу

ПРИСТРІЙ ДЛЯ МОДЕЛЮВАННЯ ПРОЦЕСІВ НАНЕСЕННЯ ГАЛЬВАНІЧНИХ ПОКРИТТІВ

Патент на корисну модель

(51)

МПК
C25D 21/00 (2006.01)

(11)

59335

(22)

01.11.2010

(24)

10.05.2011

(21)

u201012933

(46)

10.05.2011, бюл. № 9

(71)

НАЦІОНАЛЬНИЙ АЕРОКОСМІЧНИЙ УНІВЕРСИТЕТ ІМ. М. Є. ЖУКОВСЬКОГО "ХАРКІВСЬКИЙ АВІАЦІЙНИЙ ІНСТИТУТ"

НАЦИОНАЛЬНЫЙ АЭРОКОСМИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ ИМ. Н.Е. ЖУКОВСКОГО "ХАРЬКОВСКИЙ АВИАЦИОННЫЙ ИНСТИТУТ"

M.ZHUKOVSKYI NATIONAL AIRSPACE UNIVERSITY "KHARKIV AVIATION INSTITUTE"

(72)

Кошовий Микола Дмитрович

; Костенко Олена Михайлівна

Кошевой Николай Дмитриевич

; Костенко Елена Михайловна

Koshovyi Mykola Dmytrovych

; Kostenko Olena Mykhailivna

(73)

НАЦІОНАЛЬНИЙ АЕРОКОСМІЧНИЙ УНІВЕРСИТЕТ ІМ. М. Є. ЖУКОВСЬКОГО "ХАРКІВСЬКИЙ АВІАЦІЙНИЙ ІНСТИТУТ"

НАЦИОНАЛЬНЫЙ АЭРОКОСМИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ ИМ. Н.Е. ЖУКОВСКОГО "ХАРЬКОВСКИЙ АВИАЦИОННЫЙ ИНСТИТУТ"

M.ZHUKOVSKYI NATIONAL AIRSPACE UNIVERSITY "KHARKIV AVIATION INSTITUTE"

(98)

Національний аерокосмічний університет ім. М. Є. Жуковського "ХАІ", патентний відділ
вул. Чкалова, 17, м. Харків, 61070, Україна