Картка документу
СПОСІБ ОДЕРЖАННЯ SiO2 ВИСОКОЇ ЧИСТОТИ З РОЗЧИНІВ СИЛІКАТІВ
Бібліографія
Опубліковано 25.07.2011, бюл. № 14
(21)
a201105334
(22)
28.09.2009
(51)
C01B 33/193 (2006.01)
(31)
10 2008 049 596.4
(32)
30.09.2008
(33)
DE
(31)
61/111,127
(32)
04.11.2008
(33)
US
(85)
30.04.2011
(86)
PCT/EP2009/062502, 28.09.2009
(71)
ЕВОНІК ДЕГУССА ГМБХ 
ЭВОНИК ДЕГУССА ГМБХ
EVONIK DEGUSSA GMBH
(72)
Панц Крістіан ; Руф Маркус ; Тітц Гуідо ; Паулат Флоріан ; Рауледер Хартвіг ; Мюллер Свен ; Беніш Йюрген ; Пельцер Єнс
; Руф Маркус ; Тітц Гуідо ; Паулат Флоріан ; Рауледер Хартвіг ; Мюллер Свен ; Беніш Йюрген ; Пельцер Єнс Рауледер Хартвиг
Panz, Christian ; Ruf, Markus ; Titz, Guido ; Paulat, Florian ; Rauleder, Hartwig ; Muller, Sven ; Behnisch, Jurgen ; Peltzer, Jens
; Ruf, Markus ; Titz, Guido ; Paulat, Florian ; Rauleder, Hartwig ; Muller, Sven ; Behnisch, Jurgen ; Peltzer, Jens (54)
СПОСІБ ОДЕРЖАННЯ SiO2 ВИСОКОЇ ЧИСТОТИ З РОЗЧИНІВ СИЛІКАТІВ