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| № |
Patent number |
Title of the invention and abstract piece | Date of publication of the patent |
|---|---|---|---|
| 1 | DE202005021934U1 |
VORRICHTUNG ZUR SELBSTANPASSENDEN DISPERSIONSKOMPENSATION
Vorrichtung zur anpassenden Dispersionskompensation, die zur anpassenden Dispersionskompensation in einem optischen Kommunikationssystem verwendet wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung umfasst: eine optische Eingangsfaser, die zum Eingeben optischer Signale verwendet wird; einen optischen abstimmbaren Dispersionskompensator, der zum optischen Kompensieren der Dispersion der optischen ... |
06.09.2011 |
| 2 | DE202010017381U1 |
STAUBSAUGER MIT EINEM AUFNAHMERAUM FÜR REINIGUNGSTÜCHER
Staubsauger mit einem Aufnahmeraum (4) für Reinigungstücher (5), insbesondere feuchte Reinigungstücher, oder für ein Behältnis mit Reinigungstüchern (5), insbesondere feuchten Reinigungstüchern. |
06.09.2011 |
| 3 | DE202008018108U1 |
VORRICHTUNG ZUM UMFORMEN VON KUNSTSTOFFVORFORMLINGEN MIT STERILRAUM
Vorrichtung (1) zum Umformen von Kunststoffvorformlingen (10) zu Kunststoffbehältnissen (20) mit einer Transporteinrichtung (2), an der eine Vielzahl von Blasstationen (8) angeordnet ist, wobei jede dieser Blasstationen (8) eine Blasform aufweist, innerhalb derer ein Kunststoffvorformling (10) zu einem Kunststoffbehältnis (20) umformbar ist, wobei die Vorrichtung (1) einen Reinraum (6) aufweist, i... |
06.09.2011 |
| 4 | DE202009018441U1 |
LICHTEMITTIERENDE HALBLEITERVORRICHTUNG
Eine lichtemittierende Halbleitervorrichtung (100) mit einer ersten leitenden Halbleiterschicht (110), einer aktiven Schicht (120) unter der ersten leitenden Halbleiterschicht (110), und einer zweiten leitenden Halbleiterschicht (130) unter der aktiven Schicht (120); eine zweite Elektrodenschicht (140) unter der zweiten leitenden Halbleiterschicht (130); einen Isolator (160) auf einem Abschnitt de... |
06.09.2011 |
| 5 | DE202009018453U1 |
VORRICHTUNG MIT BEWEGTER FLAMME
Vorrichtung zum Simulieren einer Flamme, umfassend: ein Gehäuse, das einen Innenraum mit einer ersten Stufe und einer zweiten Stufe umfasst; einen Antriebsmechanismus, der ein zeitveränderliches elektromagnetisches Feld erzeugt, das sich in die erste Stufe erstreckt; ein Pendelelement der ersten Stufe, das schwenkbar im Innenraum der ersten Stufe angebracht ist, wobei das Pendelelement der ersten ... |
06.09.2011 |
| 6 | NL1037506C |
CONNECTING STRUCTURE FOR EXTERIORLY CONNECTING BATTERY CELLS.
The structure has a battery cell (20) exteriorly provided with a positive electrode terminal (21) and a negative electrode terminal (22) to serve as power output terminals, and a connecting graphite alloy block (30) made of a graphite alloy and connected to the positive electrode terminal of the battery cell. Another battery cell (40) is provided with a positive electrode terminal (41) and a negat... |
06.09.2011 |
| 7 | NL1037732C |
EEN KLAPSCHAATS WAARBIJ DE SCHAATS-BUIS VANUIT DE SCHOENBEUGEL OP EEN OF MEERDERE PLAATSEN DOOR EEN IN HOOGTE INSTELBAAR STEUNPUNT ONDERSTEUND WORDT, WAARDOOR T GEDRAG VAN DE SCHAATS BEINVLOED KAN WORDEN. | 06.09.2011 |
| 8 | NL1037768C |
SCHAATS VOOR EEN KUNSTSTOF IJSBAAN. | 06.09.2011 |
| 9 | NL1037769C |
WERKWIJZE VOOR HET UIT EEN FRITUURPAN VERWIJDEREN VAN FRITUUROLIE, ALSMEDE EEN MIDDEL VOOR HET TOEPASSEN VAN DEZE WERKWIJZE. | 06.09.2011 |
| 10 | NL1037772C |
SAMENSTEL VAN KABELSET EN KABELKLEM. | 06.09.2011 |
| 11 | NL2005975A |
IMPRINT LITHOGRAPHY.
A method of determining a position of an imprint template in an imprint lithography apparatus is disclosed. In an embodiment, the method includes illuminating an area of the imprint template in which an alignment mark is expected to be found by scanning an alignment radiation beam over that area, detecting an intensity of radiation reflected or transmitted from the area, and identifying the alignm... |
06.09.2011 |
| 12 | NL2006014A |
STAGE SYSTEM CALIBRATION METHOD, STAGE SYSTEM, AND LITHOGRAPHIC APPARATUS COMPRISING SUCH STAGE SYSTEM. | 06.09.2011 |
| 13 | NL2006034C |
SCHOK- EN RAMMELDEMPER.
The invention relates to a device for absorbing a shock when a movable component, for instance a pivotable panel such as a door, a hatch or a swivel window, or a slidable element such as a sliding window or a drawer, is closed against a fixed component such as a frame edge, and/or for preventing rattling that results from play between this closed fixed component and this movable component, which d... |
06.09.2011 |
| 14 | NL2006058A |
STAGE SYSTEM CALIBRATION METHOD, STAGE SYSTEM, AND LITHOGRAPHIC APPARATUS COMPRISING SUCH STAGE SYSTEM. | 06.09.2011 |
| 15 | NL2006076A |
A LITHOGRAPHIC APPARATUS AND A METHOD OF MANUFACTURING A DEVICE USING A LITHOGRAPHIC APPARATUS.
A liquid handling structure for a lithographic apparatus comprises a droplet controller configured to allow a droplet of immersion liquid to be lost from the structure and to prevent the droplet from colliding with the meniscus of the confined immersion liquid. The droplet controller may comprise gas knives arranged to overlap to block an incoming droplet. There may be extraction holes lined up wi... |
06.09.2011 |
| 16 | NL2006086A |
LITHOGRAPHIC APPARATUS AND SCANNING METHOD.
A lithographic apparatus includes a first support to support a first patterning device; a second support to support a second patterning device, each of the first and the second patterning device capable of imparting a radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; a projection system to project the patterned... |
06.09.2011 |
| 17 | NL2006091A |
DESIGN RULE OPTIMIZATION IN LITHOGRAPHIC IMAGING BASED ON CORRELATION OF FUNCTIONS REPRESENTING MASK AND PREDEFINED OPTICAL CONDITIONS.
Methods, computer program products and apparatuses for optimizing design rules for producing a mask are disclosed, while keeping the optical conditions (including but not limited to illumination shape, projection optics numerical aperture (NA) etc.) fixed. A cross-correlation function is created by multiplying the diffraction order functions of the mask patterns with the eigenfunctions from singul... |
06.09.2011 |
| 18 | NL2006118A |
LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING A POSITION.
A lithographic apparatus includes a support configured to hold an object, the support being moveable relative to a reference structure in a direction; a first position measurement system configured to provide a first measurement signal in a first frequency range, the first measurement signal representative of a position of the support relative to the reference structure in the direction; a second ... |
06.09.2011 |
| 19 | NL1037773C |
KEUSTEUN. | 06.09.2011 |
| 20 | NL1037774C |
STROPDAS UIT TWEE DELEN. | 06.09.2011 |