Результати пошуку
- Фільтрувати за фондом:
- Всі
- Патенти України на винаходи
- Патенти України на корисні моделі
- Патенти України на промислові зразки
- Патенти на винаходи зарубіжних країн
- Заявки на винаходи
- Свідоцтва на топографії ІМС
- Свідоцтва України на знаки для товарів та послуг
- Прийняті до розгляду заявки на знаки для товарів і послуг
- Кваліфіковані зазначення походження товарів (КЗПТ)
| № п/п |
Номер патенту |
Назва винаходу та фрагмент реферату | Дата публікації патента |
|---|---|---|---|
| 1 | JP61028229A |
RADAR REFLECTOR HAVING TWO-WAY COMMUNICATION FUNCTION | 07.02.1986 |
| 2 | JP61028251A |
CLOCK SYNCHRONIZING SYSTEM | 07.02.1986 |
| 3 | JP61028278A |
PICTURE QUALITY COMPENSATING DEVICE | 07.02.1986 |
| 4 | JP61028283A |
VIDEO SIGNAL RECORDING AND REPRODUCING DEVICE
The apparatus records the image signal whose space frequency of the vertical direction, esp. brightness signal, is preemphasized. And the space frequency of the vertical direction in the reproduction image signal is de-emphasized to reproduce the original image signal when reproducing the recorded signal. The apparatus includes a switching pulse generator (29) controlling switches (27,30) to conne... |
07.02.1986 |
| 5 | JP61004034Y2 |
<назва відсутня> | 07.02.1986 |
| 6 | JP61004045Y2 |
<назва відсутня> | 07.02.1986 |
| 7 | JP61004072Y2 |
<назва відсутня> | 07.02.1986 |
| 8 | JP61004073Y2 |
<назва відсутня> | 07.02.1986 |
| 9 | JP61004123B |
<назва відсутня> | 07.02.1986 |
| 10 | JP61004125Y2 |
<назва відсутня> | 07.02.1986 |
| 11 | JP61004136Y2 |
<назва відсутня> | 07.02.1986 |
| 12 | JP61004144B |
<назва відсутня> | 07.02.1986 |
| 13 | JP61004145Y2 |
<назва відсутня> | 07.02.1986 |
| 14 | JP61004159B |
<назва відсутня> | 07.02.1986 |
| 15 | JP61004163B |
<назва відсутня>
This invention relates to a thin film of an amorphous magnetic material including ion-nitride having the formula FexN1-x, where x is from 0.4 to 0.7. The film is deposited on a substrate by sputter deposition in the presence of an inert gas and at a pressure from 25 mu m to 100 mu m. The coercivity of the magnetic material varies as a function of the gas pressure employed during sputtering. |
07.02.1986 |
| 16 | JP61004170B |
<назва відсутня> | 07.02.1986 |
| 17 | JP61004216B |
<назва відсутня> | 07.02.1986 |
| 18 | JP61004239B |
<назва відсутня> | 07.02.1986 |
| 19 | JP61004268B |
<назва відсутня> | 07.02.1986 |
| 20 | JP61004274B |
<назва відсутня> | 07.02.1986 |