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1 EP346535A1
SELBSTAUSRICHTENDES BIPOLARES HERSTELLUNGSVERFAHREN.;SELF-ALIGNED BIPOLAR FABRICATION PROCESS.;PROCÉDÉ AUTO-ALIGNÉ POUR FABRIQUER DES DISPOSITIFS BIPOLAIRES.

A self-aligned process for the fabrication of a walled-emitter transistor includes the formation of an isolated device island (2) on the surface of a semiconductor wafer (1). A layer of dielectric (3) is then formed on the wafer (1), leaving only part of the device island (2) exposed. A 'substitute emitter' (4) of silicon nitride is then formed on the exposed part of the device island (2) in the p...

20.12.1989
2 EP346543A1
BIPOLARER TRANSISTOR.;BIPOLAR TRANSISTOR.;TRANSISTOR BIPOLAIRE.

A bipolar transistor has a polysilicon emitter contact (7), the polysilicon essentially filing the emitter window (5), and having a substantially planar upper surface. The planar upper surface of the emitter contact (7) eases subsequent metal deposition and patterning, and also results in a more nearly planar dopant drive front when the polysilicon is used as a dopant source in forming a shallow (...

20.12.1989
3 EP346562A1
VORRICHTUNG ZUR INDUKTIVEN SIGNALÜBERTRAGUNG BEI TASTKÖPFEN.;DEVICE FOR THE INDUCTIVE SIGNAL TRANSMISSION AT CALLIPERS.;DISPOSITIF POUR LA TRANSMISSION INDUCTIVE DE SIGNAUX SUR PALPEURS.

Zur induktiven Übertragung des Antastsignals vom Tastkopf (1) zum stationären Maschinenkörper (7) sind induktive Koppelelemente (11,12,15,17) zwischen dem Aufnahmedorn (5) des Tastkopfes (1) und der Spindel (6) sowie zwischen der Spindel (6) und dem Maschinenkörper (7) vorgesehen. Das Koppelelement (11,12) des Aufnahmedorns (5) besteht aus einer Spule (12) mit einem ferromagnetischen Kern (11). Ge...

20.12.1989
4 EP346563A2
WAAGE MIT ELEKTROMAGNETISCHER LASTKOMPENSATION.;BALANCE USING ELECTROMAGNETIC LOAD COMPENSATION.;BALANCE AVEC COMPENSATION ÉLECTROMAGNÉTIQUE DE CHARGE.

Die Lastkompensation erfolgt durch einen Kompensationsstrom in Form von Gleichstromimpulsen mit lastabhängiger Impulsdauer, die durch ein von der lastabhängigen Auslenkung der Waage abgeleitetes Regelsignal bestimmt wird. Der die elektromagnetische Kompensationseinrichtung (2) enthaltende Kompensationsstromkreis wird periodisch geschlossen durch eine Schalteinrichtung (5), die von einer Regelschal...

20.12.1989
5 EP346566A2
GERÄT ZUR SAUERSTOFFANREICHERUNG.;OXYGEN ENRICHING APPARATUS.;APPAREIL D'ENRICHISSEMENT D'OXYGENE.

An apparatus for producing oxygen enriched air from the atmospheric air, including an oxygen enriching system employing a fan (18) for inducing a flow of atmospheric air through an oxygen enriching unit and a pump (10) for deriving the oxygen enriched air from the oxygen enriching unit, a sound-proof box for encasing the fan and pump (10), an air intake passage (30) subjected to bending not less t...

20.12.1989
6 EP346569A1
MIT DEM FERMI-NIVEAU NICHTFIXIERTE OXID-VERBINDUNGSHALBLEITERSTRUKTUREN UND VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNGEN.;UNPINNED OXIDE-COMPOUND SEMICONDUCTOR STRUCTURES AND METHOD OF FORMING SAME.;STRUCTURES DE SEMI-CONDUCTEURS À COMPOSANT D'OXYDE À NIVEAU DE FERMI DÉBLOQUÉ ET PROCÉDÉ POUR SES FABRICATIONS.

Unpinned metal-oxide-compound semiconductor structures are disclosed and a method of fabricating such structures is described. Epitaxial layers of compound semiconductor (14) are grown by MBE which results in the formation of a smooth surface having a stabilized reconstruction. An elemental semiconductor layer (16) is deposited epitaxially in situ with the compound semiconductor layer (14) which u...

20.12.1989
7 EP346577A1
EINRICHTUNG ZUM EXEMPLARWEISEN BESCHREIBEN VON IN EINEM SCHUPPENSTROM ANFALLENDEN DRUCKEREIPRODUKTEN.;DEVICE FOR INDIVIDUALLY IMPRINTING PRINTING PRODUCTS ARRIVING IN A SHINGLED FORMATION.;DISPOSITIF POUR IMPRIMER UN PAR UN DES PRODUITS IMPRIMÉS TRANSPORTÉS EN FORMATION IMBRIQUÉE.

Die Druckereiprodukte (20) werden im Schuppenstrom mittels einer Fördervorrichtung an einem Tintenstrahlschreiber (34') vorbeitransportiert. Ein Sensor (34, 35) löst einen Schreibvorgang des Tintenstrahlschreibers aus, wenn ein Druckereiprodukt (20) dessen Schreibbereich erreicht hat. Damit die Druckereiprodukte (20) auch in einem in freier Auflage geförderten Schuppenstrom beschriftet werden könn...

20.12.1989
8 EP346578A1
EINRICHTUNG ZUM SAMMELN, ZUSAMMENTRAGEN UND EINSTECKEN VON DRUCKEREIPRODUKTEN.;DEVICE FOR ASSEMBLING, COLLATING AND INSERTING PRINTING PRODUCTS.;DISPOSITIF POUR ASSEMBLER, COLLATIONNER ET INSÉRER DES PRODUITS IMPRIMÉS.

Am umlaufenden Zugorgan (16) sind Halteanordnungen (20) befestigt, auf welchen je eine sattelförmige Auflage (12) angeordnet ist. Die Wände (42, 44) dieser Auflagen (12) begrenzen im Bereich der förderwirksamen Strecke taschenförmige Aufnahmeteile (46). Die vom ersten Zuförderer (22) zugeführten Druckereiprodukte (14) werden je in einen Aufnahmeteil (46) eingeführt und von einer Oeffnungsvorrichtu...

20.12.1989
9 EP346579A1
EINRICHTUNG ZUM SAMMELN, ZUSAMMENTRAGEN UND EINSTECKEN VON DRUCKEREIPRODUKTEN.;DEVICE FOR ASSEMBLING, COLLATING AND INSERTING PRINTING PRODUCTS.;DISPOSITIF POUR ASSEMBLER, COLLATIONNER ET INSÉRER DES PRODUITS IMPRIMÉS.

An der in Pfeilrichtung (F) umlaufend antreibbaren Förderkette (16) sind Auflagen (18) vorgesehen. Links und rechts der Förderkette (16) sind an einem Gestell (22) befestigte Leitbleche (24, 24') angeordnet. Eines dieser Leitbleche (24) bildet zugleich ein Teil der einen Seitenflanke des V-förmigen Aufnahmeteils (12). Im Spalt zwischen dem unteren Ende dieses Leitbleches (24) und der kurzen Flanke...

20.12.1989
10 EP346587A2
KABELDURCHFÜHRUNG.;CABLE FEEDTHROUGH.;TRAVERSÉE DE CÂBLE.

Bei einer bekannten Kabeldurchführung für ein wenigstens ein elektrisches Bauteil enthaltendes Gehäuse, welches aus einem topfförmigen Gehäuseteil (1, 6) und einem Verschlußteil (11, 12) besteht, ist eine Zugentlastung für das Kabel (2, 22) vorgesehen. Die Erfindung schlägt vor, die Zugentlastung dadurch zu verbessern, daß zwei gegeneinander bewegbare Teile (11, 12 und 14) zum Einklemmen des Kabel...

20.12.1989
11 EP346589A1
OPTISCHER POSITIONSSENSOR.;OPTICAL POSITION SENSOR.;CAPTEUR OPTIQUE DE POSITION.

The patent describes an optical sensor for measuring the position of a remote moving body, which converts said position into a phase modulation of an optical measure signal and in which the false phase variations induced by the variations in the environmental conditions are compensated. The compensation is effected by generating an optical reference signal, which travels together with the optical ...

20.12.1989
12 EP346595A2
VERWENDUNG EINER NICHTEDELMETALLFREIEN DENTALLEGIERUNG FÜR GEGOSSENEN FESTSITZENDEN ZAHNERSATZ.;USE OF A DENTAL ALLOY DEVOID OF NON-PRECIOUS METALS FOR CASTING FIXED DENTAL PROSTHESES.;UTILISATION D'UN ALLIAGE DENTAIRE NE CONTENANT PAS DE MÉTAUX NON PRÉCIEUX POUR COULER DES PROTHÉSES DENTAIRES FIXES.

Nichtedelmetallfreie Dentallegierungen mit guthaftender Oberfläche für Keramikverblendungen und geringer Verfärbungsneigung enthalten 60 bis 85 Gew % Gold, 4 bis 20 Gew % Platin, 2 bis 20 Gew % Palladium, 1 bis 11 Gew % Silber und o,1 bis 3 Gew % Iridium und/oder Rhodium.; Dental alloys which are devoid of non-precious metals and have a surface which adheres well to ceramic veneers and have little...

20.12.1989
13 EP346596A2
OPTISCHES MODUL MIT ANGESCHLOSSENER GLASFASER.;OPTICAL MODULE WITH CONNECTED OPTICAL FIBER.;MODULE OPTIQUE AVEC FIBRE OPTIQUE CONNECTÉE.

This invention relates to an optical module having an optically operative device (2) to be optically connected to an optical fiber (1), and a fiber saddle (5) provided near the optically operative device (2) for the optical fiber (1) to be fixed to with solder. The fiber saddle (5) is provided on a heat insulative substrate (6) mounting the optically operative device (2), so that heat for melting ...

20.12.1989
14 EP346599A1
TARGET FÜR MAGNETRON-KATHODENZERSTÄUBUNGSANLAGEN.;TARGET FOR MAGNETRON SPUTTERING APPARATUSES.;CIBLE POUR DISPOSITIF DE PULVÉRISATION CATHODIQUE À MAGNÉTRON.

Targets für Magnetron-Kathodenzerstäubungsanlagen mit hoher Materialausnutzung erhält man aus ferromagnetischen Legierungen, wenn der Mengenanteil der hexagonalen Gefügephase größer ist als der kubische Phasenanteil und die hexagonale Prismenachse (0001) bevorzugt senkrecht zur Targetoberfläche ausgerichtet ist.; Targets for magnetron - sputtering systems with a high utilization of material are ob...

20.12.1989
15 EP346600A2
ANLAUFBESTÄNDIGE EDELMETALLLEGIERUNGEN FÜR DIE ZAHNTECHNIK.;TARNISH-RESISTANT NOBLE METAL ALLOYS FOR DENTAL USE.;ALLIAGES DE MÉTAUX NOBLES RÉSISTANT À LA TERNISSURE.

Preisgünstige, anlaufbeständige Edelmetallegierungen für die Zahntechnik mit oder ohne Kunststoffverblendung bestehen aus 36-39 % Silber, 28-32,5 % Gold, 17-19,5 % Palladium, 0-0, 1 % Iridium, 9,5-10,5 % Kupfer, 0,5-3,0 % Indium und 0,5-2,5 % Zink, wobei die Summe der Gehalte an Indium und Zink maximal 4 % betragen darf.; The alloys, with or without plastic veneer, are low-cost and consist of 36-3...

20.12.1989
16 EP346607A2
HYDRAULISCHE STEUEREINRICHTUNG INSBESONDERE FÜR KRAFTSTOFFEINSPRITZANLAGEN VON BRENNKRAFTMASCHINEN.;HYDRAULIC CONTROL DEVICE FOR FUEL INJECTION SYSTEMS OF INTERNAL COMBUSTION ENGINES.;DISPOSITIF DE CONTRÔLE HYDRAULIQUE POUR SYSTÈMES D'INJECTION DU CARBURANT POUR MACHINES À COMBUSTION INTERNE.

Hydraulische Steuereinrichtung insbesondere für Kraftstoffeinspritzpumpen von Brennkraftmaschinen mit einem von einem Hochdruckraum, beispielsweise Pumpenarbeitsraum, (4) abzweigenden Steuerkanal (28), der in einem Steuerraum (40) eine Steuerfläche (31) eines Stufenkolbens (29) zur hydraulischen Volumenuntersetzung beaufschlagt, dessen Arbeitsfläche kleineren Durchmessers einen geschlossenen Arbei...

20.12.1989
17 EP346609A2
VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM SCHNELLEN BESTIMMUNG DES SCHLAMMINHALTS.;RAPID DETERMINATION OF SLUDGE CONTENT AND DEVICE THEREFOR.;MÉTHODE ET DISPOSITIF POUR LA DÉTERMINATION RAPIDE DE CONTENUS DE BOUE.

A method for determining a sludge content in a heavy hydrocarbon oil and a device therefor are disclosed. The method comprises measuring absorbances of a heavy hydrocarbon oil sample, having an oil film thickness selected form a range of from about 0.01 to 5 mm, at two different wavelengths selected from the visible light region of from 500 to 1000 nm and determining a sludge content of the sample...

20.12.1989
18 EP346616A2
EINRICHTUNG ZUR HERSTELLUNG VON PELLETFÖRMIGEN MIT PULVRIGEM DRAINAGEMATERIAL BEPUDERTEN FORMKÖRPERN AUS MECHANISCH ENTWÄSSERTEM SCHLAMM.;APPARATUS FOR THE PRODUCTION OF PELLETS COVERED BY A POWDERED WASTE MATERIAL STARTING FROM A MECHANICALLY DEWATERED SLUDGE.;INSTALLATION POUR LA FABRICATION DE CORPS GRANULAIRES RECOUVERTS D'UNE MATIÈRE DE REJET PULVÉRULENTE À PARTIR DE BOUES DÉSHYDRATÉES MÉCANIQUEMENT.

Um zum Zwecke der Herstellung von pelletförmigen mit pulvrigem Drainagematerial bepuderten Schlammformkörpern eine Einrichtung zu schaffen, die vergleichsweise einfach und klein gebaut ist und trotzdem eine hohe Durchsatzleistung ermöglicht, und die Formkörper erzeugt, die sich in einer nachgeschalteten Presse sehr wirkungsvoll auspressen und damit nachentwässern lassen, wird erfindungsgemäß ein r...

20.12.1989
19 EP346645A1
VERWENDUNG EINER AUSHÄRTBAREN KUPFERLEGIERUNG.;USE OF AN AGE-HARDENABLE COPPER-BASED ALLOY.;UTILISATION D'UN ALLIAGE À BASE DE CUIVRE DURCISSABLE PAR VIEILLISSEMENT.

Für die Herstellung von Gießformen, die beim Gießen einer permanent wechselnden Temperaturbeanspruchung unterliegen, beispielsweise Blöcke von Seitendämmen von Doppelbandgießanlagen oder Gießräder, werden thermisch hochleitfähige Werkstoffe benötigt, die gegenüber einer Thermoschockbehandlung rißunempfindlich sind und zudem eine hohe Warmfestigkeit aufweisen. Erfindungsgemäß wird für diese Anwendu...

20.12.1989
20 EP346649A1
SORPTIONSEINRICHTUNG ZUM REINIGEN VON ABGASEN.;ADSORPTION APPARATUS FOR THE PURIFICATION OF EXHAUST GASES.;DISPOSITIF D'ADSORPTION POUR PURIFIER DES GAZ D'ÉCHAPPEMENT.

Eine Sorptionseinrichtung mit einem Vorratsbehälter und einem Reaktionsbehälter besitzt eine Reihe von Gasleiteinrichtungen für das eintretende Rohgas. Das Reingas wird oberhalb des Rohgaseintritts (12) an einem Reingasaustritt (13) abgeführt, der kurz unterhalb eines Trennbodens (10) zwischen Vorratsraum (2) und Reaktionsraum (3) liegt. Der Trennboden (10) besitzt Durchlässe (20) für das von oben...

20.12.1989